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气源柜主要技术要求、现场安装具备的条件和技术服务及质量保证

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气源柜主要技术要求、现场安装具备的条件和技术服务及质量保证

发布日期:2015-11-21 00:00 来源:http://www.putfine.com 点击:

气源柜

气源柜主要技术要求: 

  1 、各室极限真空度不差于 2 × 10-5Pa ;恢复工作真空时间短,从大气到工作背景真空, 40 分钟左右 ( 充干燥氮气 ) 。   

  2 、此一体化设备主要包括防泄漏气源柜,总电柜,一个进出样品室,一个样品预处理兼样品过渡室,一个原位真空样品传送室,一个金属溅射室和一个化学气相沉积兼真空退火室;存放置样品处尺寸以 3 英寸设计标准。  

  3 、样品预处理室采用直流轰击或离子源。  

  4 、溅射室:两个直流溅射靶和一个 RF 溅射靶并分别配备挡板,三个独立控制的微量气源,衬底温度不低于 400 OC 上下浮动范围在 0.2OC 范围内,衬底自转,样品和蒸发基底处配有上挡板;能够溅射磁性材料;独立真空获得系统。  

  5 、化学气相沉积兼真空退火室:五路独立控制的微量气源,热处理温度不低于 1100 ℃ ,并预留原位低能或高能电子衍射谱连接口;独立真空获得系统;升降温度的速率可控,上下浮动范围在 0.2 ℃ 范围内。 

  6 、样品传送室备有可以储存不少于三个样品的储存处——气源柜。 

   

  标项二: 电子束与电阻蒸发复合镀膜系统 一台 

  主要技术要求: 

  复合镀膜系统主要由蒸发真空室、 E 型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、两路工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成。 

  1 、系统真空室: U 型水冷箱体活开门结构,尺寸大于 F 400mm ×550mm ; 

  2 、极限真空度: ≤6.67×10 -5 Pa ( 经烘烤除气后 ) ; 

  3 、系统真空检漏漏率: ≤5.0×10 -7 Pa × l/s ; 

  4 、短时间( <45 分钟)真空度可达到 5×10 -4 Pa 左右; 

  5 、水平旋转基片加热台:可放置 4 英寸样品,加热Z高温度可达 800°C±1°C ; 

  6 、基片加热台与蒸发源之间的距离: 300mm - 350mm 可调; 

  7 、垂直旋转的丝状样品放置台:安装在侧面的 16CF 法兰接口上,电机驱动磁耦合机制控制,转速 0-30rpm 可调;丝状样品放置台位于水平旋转基片加热台正下方,可随意拆卸; 

  8、 电阻蒸发源:水冷电极 3 根,蒸发电源Z大输出功率至少 2.5KW ; 

  9 、电子枪及电源: 270oE 型电子枪,功率 0-6KW 可调,阳极电压为 6KV 、 8KV ; 

  10 、离子轰击系统的接口:在该设备的腔体上正后方加工一个安装离子轰击系统的口径约为 150mm 的转接口; 

  11 、水冷式坩锅:四穴坩锅,每个容量至少 10ml ,单穴结构为圆台型; 

  12 、石英晶体振荡膜厚仪:厚度分辨率为 1? ,厚度显示范围为 0 ~ 99μm ; 

  13 、两路工作气路:分别配备 100SCCM 和 200SCCM 的质量流量控制器各一套。 

   

  技术服务及质量保证: 

  1 、提供该设备的技术使用说明书及外购配件仪器仪表说明书——气源柜; 

  2 、在验收后,一年内免费维修,并终身维修。 

   

  现场安装具备的条件: 

  1 、电源 380V 50Hz 功率大于 10KW ; 

  2 、可靠地线 , 对地电阻小于 2Ω ; 

  3 、具有循环冷却水; 

  4 、安装场地面积 25M 2 , 高度高于 2.4M ; 

  5 、要求有普通氮气,压强要在 2 ~ 3 个大气压之间; 

  6 、外排废气管道;

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